声明
严正声明：本站非期刊官网，非中介代理。
本站仅提供学术规范服务：快速预审、润色编辑服务、中英文查重、降重、去重服务、推荐合适的期刊投稿等学术规范服务。 如需提供学术规范服务请联系在线编辑。
国内刊号：11-1421/N
国际刊号：1000-7857
发布日期:
作者：赵康, 赵鼎*, 仇旻*
单位：1.西湖大学光电研究院,浙江省3D微纳加工和表征研究重点实验室,杭州311421；2.西湖大学工学院电子信息工程系,杭州310030；3.浙江西湖高等研究院,前沿技术研究所,杭州310024；
关键词：冰刻,纳米制造,电子束光刻,3D纳米打印,光电子器件
基金：国家自然科学基金项目(U21A20494)
微纳加工技术作为现代信息技术、生物医学、能源器件等领域的基石，其发展水平直接决定了先进功能器件与集成系统的性能上限[1−3]。在众多微纳加工技术中，电子束光刻（electron beam lithography，EBL）凭借纳米级分辨率成为高精度图案化的核心手段。然而，常规EBL工艺流程较为复杂、材料兼容性有限，难以满足非平面衬底加工、敏感易损材料加工、生物相容性制造等新兴需求[4−5]。在此背景下，冰刻技术（ice lithography，IL）作为一种EBL衍生的低温微纳加工方法，通过将特定气体在低温衬底表面凝结为固态冰胶，并利用电子束与冰层的相互作用实现图案化，为解决上述挑战提供了全新思路[6]。
来源：2025年第12期
《科技导报》期刊编辑部
严正声明：本站非期刊官网，非中介代理。
本站仅提供学术规范服务：快速预审、润色编辑服务、中英文查重、降重、去重服务、推荐合适的期刊投稿等学术规范服务。 如需提供学术规范服务请联系在线编辑。